新闻动态

了解SAWATEC最新资讯和行业动态

最新新闻

2026年3月 · 周年纪念

SAWATEC 三十周年 · 1996—2026 | 三十年,235家客户,32个国家

1996年在瑞士创立,2026年迈入第三十年。三十年里,SAWATEC的涂胶显影设备进入全球235家客户的生产线,覆盖32个国家和地区。数字背后,是三十年不曾动摇的工艺信念。

阅读全文 →

2026年3月 · 展会回顾

SAWATEC 成功亮相 SEMICON China 2026 | 展会观察与客户反馈

展会时间:2026年3月25-27日
展位位置:N2馆 2828号展位

为期三天的SEMICON China 2026已圆满落幕,SAWATEC在展会期间与众多行业同仁、客户及合作伙伴进行了深入交流。本次展会我们观察到:

  • 中国R&D实验室和中试线升级提速:更多客户关注150mm→200mm产线升级,对涂胶显影设备的工艺稳定性和温度均匀性提出更高要求
  • 化合物半导体工艺挑战凸显:GaN/SiC等材料对热板温度均匀性、厚胶工艺控制的需求日益增长
  • 客户声音聚焦工艺难题:展会期间听到的真实反馈集中在"如何解决GaN温度均匀性"、"热板如何影响良率"等具体工艺挑战

SAWATEC的定位始终清晰:解决工艺难题,不是单纯销售硬件。我们带来的RCCT封闭腔涂覆技术、多区精密温控系统和真正的模块化架构,正是为了应对这些挑战。

感谢所有莅临N2-2828展位的客户和合作伙伴。展会虽已结束,但交流仍在继续。如果您在展会期间与我们交流过,或有任何涂胶显影工艺问题需要探讨,欢迎随时联系我们。

阅读详细回顾 → 查看LinkedIn帖子 →

技术文章

2026年4月 · 技术洞察

±0.3°C极致温控:纳米光刻时代,顶尖平台真正的精度底层追求

光刻之巅的隐形共识——为什么顶级实验室都在关注这些技术细节?深入解析Carl Zeiss、MIT、Fraunhofer等顶尖玩家对配套涂胶显影工艺的选择趋势,以及SAWATEC成为行业标准的底层技术逻辑。

阅读全文 →

2025年3月 · 技术文章

涂胶显影设备选型指南:关键参数与评估要点

全面解析涂胶显影涂胶显影设备选型中的关键参数:旋涂机转速精度与RCCT封闭腔技术、加热板多区温控与Proximity技术、显影机浸泡/喷淋模式选择,以及系统级的自动化升级路径和TCO分析方法。

阅读全文 →

2025年3月 · 技术文章

化合物半导体制程中的涂胶显影工艺挑战

深入分析GaN、SiC、GaAs、InP等化合物半导体制程中涂胶显影工艺面临的六大特殊挑战:非标准晶圆尺寸、基板翘曲、表面润湿性、厚胶工艺、温度敏感性和小批量多品种生产模式。

阅读全文 →

2025年3月 · 技术文章

SAWATEC 全自动涂胶显影系统技术优势解析

深度解析SAWATEC涂胶显影系统的五大核心技术优势:RCCT封闭腔涂覆技术、真正的模块化架构、多区精密温控、CS集群系统工程设计以及瑞士制造品质。

阅读全文 →

2026年4月 · 技术趋势

2026年半导体光刻胶国产化趋势下的涂胶显影工艺挑战

随着国产KrF/ArF光刻胶产能大幅提升,国产化率快速提高,这对涂胶均匀性、烘烤精度和显影控制提出了新要求。本文解析国产光刻胶的工艺特点及SAWATEC设备的应对方案。

阅读全文 →

2026年3月 · 技术分析

先进封装RDL工艺中的涂胶显影技术挑战与解决方案

随着芯片制程进入3nm以下节点,先进封装中的RDL(重分布层)工艺对涂胶厚度均匀性、边缘覆盖和缺陷控制提出了更高要求。本文分析RDL工艺的特殊挑战及SAWATEC的针对性解决方案。

阅读全文 →

2026年3月 · 工艺研究

国产光刻胶在化合物半导体工艺中的应用挑战与优化

针对GaN、SiC等化合物半导体材料,国产光刻胶在表面润湿性、粘附力和热稳定性方面面临特殊挑战。本文探讨这些挑战及SAWATEC设备如何通过工艺优化解决这些问题。

阅读全文 →

最新新闻

2026年4月 · 技术突破

SAWATEC HP-200系列热板实现±0.3℃温度均匀性突破

SAWATEC宣布其HP-200系列精密热板在温度均匀性方面实现重大突破,全板面温度均匀性达到±0.3℃,边缘区域温度波动控制在±0.5℃以内。这一突破对于化合物半导体(GaN、SiC)和先进封装工艺具有重要意义。

技术亮点:

  • 多区独立温控:将热板划分为16个独立温控区域,每个区域可独立调节
  • 边缘温度补偿:专门针对边缘区域进行动态温度补偿,解决"边缘效应"问题
  • 实时监控调整:内置高精度温度传感器,实时监控并自动调整加热功率
  • 适用于敏感材料:特别适合对温度敏感的化合物半导体材料

该技术突破已在多家化合物半导体研发中心得到验证,显著提升了GaN功率器件的良率和性能一致性。

2026年3月 · 展会成果

SAWATEC SEMICON China 2026展会成果显著,接待超300位专业观众

在2026年3月25-27日举办的SEMICON China 2026展会上,SAWATEC在N2馆2828号展位取得了显著成果。为期三天的展会共接待了超过300位专业观众,其中包括45家研发机构、28家化合物半导体企业和15家MEMS器件厂商。

展会观察:

  • R&D升级趋势明显:更多客户关注150mm→200mm产线升级
  • 化合物半导体需求增长:GaN、SiC等材料对温度均匀性要求更高
  • 工艺难题聚焦:客户反馈集中在温度均匀性、厚胶工艺控制等具体挑战

展会期间,SAWATEC与23家客户安排了后续技术交流会议,为8家客户安排了设备样品测试计划。

2026年3月 · 公司里程碑

SAWATEC成立三十周年,全球安装设备超1500台

2026年,SAWATEC迎来成立三十周年里程碑。自1996年在瑞士创立以来,SAWATEC的涂胶显影设备已进入全球235家客户的生产线,覆盖32个国家和地区,全球累计安装设备超过1500台。

三十年发展历程:

  • 1996年:在瑞士创立,专注于精密涂胶显影设备研发
  • 2005年:推出首款全自动涂胶显影系统
  • 2015年:进入中国市场,成立深圳瑞讯半导体系统有限公司
  • 2020年:推出RCCT封闭腔涂覆技术,解决厚胶工艺难题
  • 2026年:实现±0.3℃温度均匀性突破,服务化合物半导体领域

三十年来,SAWATEC始终坚持"解决工艺难题,不是单纯销售硬件"的理念,为客户提供针对性的工艺解决方案。

历史新闻

以下为历史新闻存档

2024年9月 · 历史新闻

新销售合作伙伴 DAVRU Engineering SA(墨西哥)

2024年9月1日,DAVRU Engineering SA 与 SAWATEC AG 正式签署销售合作协议。此次合作聚焦于 SAWATEC 产品在墨西哥市场的销售和售后服务,进一步扩大了 SAWATEC 在拉丁美洲的业务布局。

DAVRU Engineering SA 是墨西哥领先的半导体设备解决方案提供商,拥有丰富的行业经验和完善的客户服务网络。双方的合作将为墨西哥及周边地区的客户提供更加便捷的产品获取渠道和本地化技术支持。

2024年1月

集群系统:揭幕新一代产品

我们很高兴向大家介绍 SAWATEC 集群系统的最新发展阶段。新一代集群系统在自动化程度、工艺灵活性和生产效率方面均有显著提升,为客户提供更强大的自动化解决方案。

新系统采用模块化设计理念,客户可根据自身工艺需求灵活配置不同的工艺模块,包括涂胶、烘烤、冷却、显影和清洗等功能单元。配合自动化中央装载站和 FOUP 接口,可无缝融入现有产线。

2023年7月

SAWATEC 澳大利亚和新西兰合作伙伴

Ezzi Vision 正式成为 SAWATEC 在澳大利亚和新西兰的授权销售和服务合作伙伴。Ezzi Vision 期待从今往后为澳新地区的所有 SAWATEC 客户提供全面的项目支持和技术服务。

展会活动

📍

SEMICON China 2026

2026年3月25日 - 27日

中国·上海

N2 展馆 · 2828号展位

了解更多
📅

更多展会信息

我们定期参加全球各地的半导体行业展会和技术交流活动。如需了解最新展会计划,请联系我们。

联系我们